推荐设备——DLC1500
华升自主研发的DLC系列真空镀膜设备,结合了离子源、磁控溅射、PECVD技术优势,可快速沉积高硬度、低摩擦系数的类金刚石涂层。
等离子体刻蚀:离子源(Ion Source)

高能量等离子体,清洁产品表面
原子级刻蚀,不影响产品粗糙度
钢材低温低压氮化
维护保养方便
DLC层沉积: 等离子体增强化学气相沉积(PECVD)

制备含氢DLC涂层 电磁场交互作用离化气体 免保养、免维护 沉积效率高 更适合复杂形状零部件
过渡层沉积:直流磁控溅射(DCMS)

非平衡磁场设计,靶材利用率高 过渡层可选:Cr、WC、Ti… 获得更好的涂层质量 更低的薄膜应力
消费电子
CONSUMER ELECTONICS
PVD&PECVD复合技术,适应更多应用场景

等离子体清洁产品,提高涂层结合力
涂层光滑,不存在大颗粒污染

工艺稳定,自动化运行

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