推荐设备——DLC1500
华升自主研发的DLC系列真空镀膜设备，结合了离子源、磁控溅射、PECVD技术优势，可快速沉积高硬度、低摩擦系数的类金刚石涂层。
等离子体刻蚀：离子源（Ion Source）
高能量等离子体，清洁产品表面
原子级刻蚀，不影响产品粗糙度
钢材低温低压氮化
维护保养方便
DLC层沉积：
等离子体增强化学气相沉积（PECVD）
制备含氢DLC涂层
电磁场交互作用离化气体
免保养、免维护
沉积效率高
更适合复杂形状零部件
过渡层沉积：直流磁控溅射（DCMS）
非平衡磁场设计，靶材利用率高
过渡层可选:Cr、WC、Ti…
获得更好的涂层质量
更低的薄膜应力
家用电器
HOUSEHOLD APPLIANCES
PVD&PECVD复合技术，适应更多应用场景
等离子体清洁产品，提高涂层结合力
涂层光滑，不存在大颗粒污染
工艺稳定，自动化运行
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