HA系列
多年技术沉淀，成就行业口碑
• 基础硬件：第2代弧电源+HiPIMS电源+脉冲偏压电源+闭环温控系统+线圈电源+圆饼弧磁场+溅射磁场
• 等离子体源：离子源+溅射源+第2代多弧源
• 沉积方法：多弧离子镀+直流溅射+高能溅射
HA800
HA500
• 基础硬件：第2代弧电源+HiPIMS电源+脉冲偏压电源+闭环温控系统+线圈电源+圆饼弧磁场+溅射磁场
• 等离子体源：离子源+溅射源+第2代多弧源
• 沉积方法：多弧离子镀+直流溅射+高能溅射
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