PVD（Physical Vapor Deposition，物理气相沉积）是一种通过物理方式将靶材汽化，然后使其在工件表面沉积，形成一层具有特殊性能的薄膜技术。整个过程可概括为三个核心步骤：汽化、输运、成膜。
在低真空的腔体内，通过外部能量（如电弧、离子轰击）使固态的靶材被加热或轰击，瞬间脱离固态，转变为气态的原子或离子团；
这些气态的粒子在真空环境中，受到初始动能和负载偏压的吸引，快速沉积到工件表面；
当这些高能粒子抵达工件表面时，会吸附、扩散，逐渐生长成一层厚度在微米级别、致密且具有极高结合力的薄膜。
通过 PVD技术，可制备多种涂层体系，如氮化物（TiN/AlTiN/AlCrN 等）、碳化物（DLC）、氧化物（TiO₂、Al₂O₃）及多元复合涂层（AlTiCrN、AlTiSiN 等）；不同涂层体系，具有不同优异的涂层性能，通过涂层体系和工艺参数的调整，可使涂层同时具有多种优异性能，如高耐磨性，高润滑性，高抗粘附性，高韧性和高耐腐蚀性等等，从而显著提升工件表面性能。
在刀具领域，PVD涂层可显著提升1-5倍刀具寿命；模具与工程零部件则可获得更高耐腐蚀与抗冲击性能。在3C电子行业，PVD涂层兼具外观质感、耐刮擦以及抗指纹功能，已成为消费电子产品外观工艺的重要选择。
当前主流PVD工艺包括磁控溅射、电弧离子镀和蒸发镀。华升纳米采用的多弧+磁控复合技术制备的涂层，兼具高硬度、高致密性与光滑的表面，使涂层性能更加稳定，适用于高效率、高耐磨需求、对表面要求高的工业场景。
随着制造业向高性能、轻量化与环保转型，PVD技术正迈向低温化、多元复合与智能化发展。尤其新能源、半导体、医疗器械等行业的兴起，进一步推动PVD涂层精度与可靠性提升。
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企业愿景
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