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采用PECVD技术 免维护成本低 |
非平衡闭合磁场仿真 |
高密度等离子体 |
涂层生产效率高 3-4炉次/天 |
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涂层2-4μm |
| 型号 | DLC1500PRO |
| 涂层技术 | MS+PECVD |
| 涂层类型 | Cr/WC/a-C:H |
| 刻蚀 | SET侧向刻蚀 |
| 阴极数量(个) | 4 |
| 设备尺寸(mm) | 长4900*宽1800*高2950 |
| 腔体容积(m³) | 2 |
| 有效涂层区域(mm) | Φ900*1000 |
| 涂层沉积温度(℃) | <200 |
| 装容量(树的数量) | 根据要求定制 |
| 最大装载重量(KG) | 1000 |
| 转轴直径(mm) | 最大Φ350 |
| 工艺时间(h) | 6-8 |
