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等离子体刻蚀高能量等离子体+原子级刻蚀技术，高效净洁产品表面 |
过渡层沉积:磁控溅射非平衡磁场设计，靶材利用率高，过渡层类型多样(Cr、WC、Ti等) |
ta-C层: 多弧离子镀3个大尺寸多弧石墨靶+永磁叠加脉冲电磁技术，高效均匀沉积高硬、耐磨ta-C涂层 |
| 型号 | TC800 |
| 涂层技术 | 电弧磁控复合离子镀 |
| 刻蚀 | WET侧向热丝刻蚀 |
| 弧源数量(个) | 3 |
| 磁控阴极 | 1 |
| 装容量(树的数量) | 10 |
| 杆刀装载量(D4*50L) | 2400pcs |
| 最大工作温度(℃) | 200 |
| 最大装载重量(KG) | 500 |
| 腔体容积(m³) | 1 |
| 有效涂层区域(mm) | Φ650*400 |
| 转轴直径(mm) | Φ130 |
| 工艺时间(h) | 3~6 |
